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项目名称：压电/铁电薄膜沉积磁控溅射+磁控溅射+金属沉积系统
招标项目编号：0618-264TC26070A5
招标范围：1.1设备采购名称：压电/铁电薄膜沉积磁控溅射，1套，只接受全新设备。 1.2设备用途：主要用于光电、传感和铁电存储领域，实现高质量压电铁电掺杂氮化铝薄膜和配套电极材料的制备。 1.3设备作业基本流程：①装片->②预处理->③生长->④取片->⑤测试。
招标机构：中招国际招标有限公司
招标人：上海芯源创新中心
开标时间：2026-06-30 09:30
公示开始时间：2026-07-02 20:01
评标公示截止时间：2026-07-07 23:59
中标候选人名单：
| 候选人排名 | 投标商名称 | 制造商 | 制造商国别及地区 |
|---|---|---|---|
| 1 | 香港爱科美半导体有限公司 | Ulvac,Inc. | 日本 |