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项目名称：中国电子科技集团公司第十三研究所接触光刻机设备采购
招标项目编号：0722-264JT2007ZB6
招标范围：（1）具有稳定可靠的晶圆厚度补偿系统，可对晶圆进行自调平和真空吸附。 （2）通过计算机软件进行工艺参数的设定、设备的控制等。 （3）最大有效曝光范围：150mm。 （4）具备晶圆正面和背面套刻，可实现双面光刻工艺。
招标机构：中国远东国际招标有限公司
招标人：中国电子科技集团公司第十三研究所
开标时间：2026-08-20 13:00
公示时间：2026-08-31 11:24 - 2026-09-03 23:59
中标结果公告时间：2026-09-07 10:23
中标人：SUSS MicroTec Lithography GmbH
制造商：SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG
制造商国家或地区：德国