国家电投集团氢能科技发展有限公司磁控溅射镀膜系统招标公告

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CEC/ICD/2019-78

磁控溅射镀膜系统

真空腔体直径不小于1000mm，具备磁控溅射沉积、真空多弧沉积、基片离子刻蚀、基片加热等功能，满足一定的产能需求。

1000

序号

标段名称

资格要求

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磁控溅射镀膜系统

1. 投标人应具有与招标方独立签订合同的法人资格。

2. 设备制造商应具有完善的质量保证体系，必须具有ISO9001管理认证；

3. 投标产品为国产设备且制造商能直接销售的，不接受代理商投标；投标产品为进口设备的，可接受由投标产品制造商授权的代理商投标，并已取得制造企业的技术支持和本招标项目授权销售代理证明文件。投标人如果是中外合资（合作）企业且是由外方提供技术支持的，应出具外方的设备性能和/或质量保证的书面文件。

4. 制造商近5年（截至开标日）在国内有类似供货业绩（金额不限）3项以上；上述项目须提供相应的业绩证明文件（包括合同封面、主要参数页/设备供货清单页、有效签字页等，否则视为无效业绩）；投标人为代理商的，另须提供至少1个与投标产品相同或类似的代理业绩证明。

5. 不接受联合体投标。

6. 投标人投标报价不得高于本项目招标控制价（500万元）。